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Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Sprache EnglischEnglisch
Buch Hardcover
Buch Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications John E. J. Schmitz
Libristo-Code: 04726841
Verlag William Andrew, Dezember 1992
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungs... Vollständige Beschreibung
? points 245 b
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This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Informationen zum Buch

Vollständiger Name Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Autor John E. J. Schmitz
Sprache Englisch
Einband Buch - Hardcover
Datum der Veröffentlichung 1992
Anzahl der Seiten 251
EAN 9780815512882
ISBN 0815512880
Libristo-Code 04726841
Verlag William Andrew
Gewicht 470
Abmessungen 152 x 229 x 18

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Industrielle Chemie und Fertigungstechnologien > Andere Fertigungsverfahren > Metallverarbeitung, Metallurgie (Hüttenwesen)
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Schaltkreise und Komponenten (Bauteile)
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Energietechnik, Elektrotechnik und Energiemaschinenbau > Elektrotechnik
EDV und Informationstechnologie > Informatik > Rechnerarchitektur und Logik-Entwurf
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